Park NX20 300mm
可用于 300mm晶片圓測量和分析的自動(dòng)化納米測量工具
Park NX20 300mm是業(yè)界大樣品原子力顯微鏡，支持300mm×300mm全程機(jī)動(dòng)化。新升級的Park NX20系統(tǒng)專為失效分析和質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)，可檢測整個(gè)300mm晶圓，且無需任何繁瑣的樣品位移。盡管擴(kuò)大了支持300mm樣品的機(jī)動(dòng)XY工作臺，但Park的創(chuàng)新性振動(dòng)隔離技術(shù)仍然能夠?qū)⑾到y(tǒng)噪聲保持在低于0.5 (Å) RMS，通常是0.3 Å RMS的水平。

經(jīng)檢驗(yàn)的原子力顯微鏡性能和單擊-原子力顯微鏡自動(dòng)化取消了樣本調(diào)整的需求，并使Park NX20的掃描過程盡可能便于使用。通過我們的“批處理模式(Program Mode)”界面，用戶可以在整個(gè)300mmx300mm區(qū)域輕松實(shí)現(xiàn)可靠與可重復(fù)的順序多站點(diǎn)測量。

專為大樣品晶圓檢測而建
NX20 300 mm進(jìn)行了全新設(shè)計(jì)，可達(dá)到大樣品的測量。整個(gè)300mm晶圓區(qū)域可進(jìn)行低噪聲原子力顯微鏡測量分析。這開啟了一個(gè)全新的自動(dòng)化測量范圍，讓工程師可以更快捷、更簡便、更準(zhǔn)確地開展工作。

靈活的300mm樣品吸盤
Park NX20 300mm真空吸盤支持各種尺寸、形狀和類型的晶圓，讓用戶幾乎可準(zhǔn)確掃描任何樣品。

300mm XY軸工作臺

機(jī)動(dòng)化的300mm XY軸工作臺允許用戶在300mm的全部區(qū)域內(nèi)移動(dòng)原子力顯微鏡的測量位置。

NX20 支持300mm樣品臺，性能已被證實(shí)
因其易用性和自動(dòng)化以及不受影響的精度，NX20已是FA、QA和QC工程師的選擇。憑借其支持300mm電動(dòng)XY軸工作臺的擴(kuò)大平臺，NX20 300mm更上一層樓，允許用戶輕松地以很高的精度檢測更大的樣品。

Park SmartScan™讓準(zhǔn)確測量更為簡單

Park NX20配備了我們的SmartScan操作系統(tǒng)，使其成為市場上最易于使用的原子力顯微鏡之一。通過直觀且強(qiáng)大的界面，即便是未經(jīng)培訓(xùn)的用戶無需協(xié)助也可快速掃描大樣品。這使工程師能夠集中精力解決更大的問題和開發(fā)更好的解決方案。

A在完整300mm晶圓上掃描多個(gè)位點(diǎn)
SmartScan™允許用戶從位點(diǎn)到位點(diǎn)和樣品到樣品的層面上，借助基于網(wǎng)格和晶圓的模式，進(jìn)行自動(dòng)順序測量與表面形態(tài)、高度和表面粗糙度的比較。這可以大大提高掃描大樣品時(shí)的用戶便利性和生產(chǎn)效率。

B強(qiáng)大的工作創(chuàng)建功能
格式創(chuàng)建流程簡單，允許工程師設(shè)置每個(gè)批次的位置、名稱、數(shù)量和類型所定義的預(yù)設(shè)。

針對廣泛應(yīng)用性進(jìn)行優(yōu)化
NX20 300mm為眾多應(yīng)用提供自動(dòng)格式的原子力顯微鏡測量，為納米級的樣品提供測量和分析。具有粗糙度、高度和深度測量，缺陷檢查，電氣和磁故障分析，熱性能表征和納米力學(xué)性能成像等能力，該原子力顯微鏡是檢測大樣品的FA、QA和QC工程師執(zhí)行各種任務(wù)的理想選擇。

Park NX20 300mm Specifications
Scanner
Z Scanner
Guided high-force flexure scanner

Scan range : 15 µm (optional 30 µm)
Height noise level : 30 pm
(RMS, at 0.5 kHz bandwidth)

 
XY Scanner
Single module flexure XY-scanner with dual servo closed-loop control

Scan range : 100 µm × 100 µm

 
Stage
Z stage range : 25 mm (Motorized)
Focus travel range : 8 mm (Motorized)
XY stage travel range : 300 mm x 300 mm (Motorized)
 
Sample Mount
Sample size : 100, 150, 200, 300 mm wafers, small sample Magnetic sample holder, thickness up to 20 mm
Sample weight : < 500 g
 
Optics
10x (0.23 NA) ultra-long working distance lens (1 µm resolution)
Direct on-axis vision of sample surface and cantilever
Field-of-view : 840 × 630 µm (with 10× objective lens)
CCD : 5 M pixel

 
Software
SmartScan™
Dedicated system control and data acquisition software
Auto mode, Manual mode
Program mode for recipe-automated, sequential multiple-site measurement AFM operation

XEI
AFM data analysis software

 
Electronics
Integrated functions
4 channels of flexible digital lock-in amplifier
Digital Q control

Signal processing
ADC : 18 channels 4 high-speed ADC channels 24-bit ADCs for X, Y and Z scanner position sensor
DAC : 17 channels 2 high-speed DAC channels 20-bit DACs for X, Y and Z scanner positioning
Maximum data size : 4096 x 4096 pixels

External signal access
20 embedded signal input/output ports
5 TTL outputs : EOF, EOL, EOP, Modulation, and AC bias
 
AFM Modes
(*Optionally available)
Standard Imaging
True Non-Contact AFM
PinPoint™ AFM
Basic Contact AFM
Lateral Force Microscopy (LFM)
Phase Imaging
Tapping AFM

 
Force Measurement
Force Distance (F/d) Spectroscopy
Force Volume Imaging

 
Dielectric/Piezoelectric Properties
Electric Force Microscopy (EFM)
Dynamic Contact EFM (EFM-DC)
Piezoresponse Force Microscopy (PFM)
PFM with High Voltage*

 
Mechanical Properties
Force Modulation Microscopy (FMM)
Nanoindentation*
Nanolithography*
Nanolithography with High Voltage*
Nanomanipulation*

 
Magnetic Properties*
Magnetic Force Microscopy (MFM)
Tunable Magnetic Field MFM

   
Electrical Properties
Conductive AFM (C-AFM)*
IV Spectroscopy*
Kelvin Probe Force Microscopy (KPFM)
Scanning Capacitance Microscopy (SCM)*
Scanning Spreading-Resistance Microscopy (SSRM)*
Scanning Tunneling Microscopy (STM)*
Photo Current Mapping (PCM)*

Chemical Properties*
Chemical Force Microscopy with Functionalized Tip
Electrochemical Microscopy (EC-AFM)